我目前正在使用我从Maplins UK购买的一些预敏化PCB板进行第一个PCB原型制作。但是，在开发和开发电路板时遇到了麻烦，似乎从来没有发现正确的方法。我什至还没有达到蚀刻阶段，因为我对预感光的显影结果不满意。我正在寻找一般性的技巧和窍门，以及如何遵循正确的“成功之路”-由于某种原因，我似乎在变得更糟！;-)
我使用的是在面罩上应用了最暗色调的喷墨透明纸，注意到后您可以在面罩上的打印区域看到光，所以我决定加倍，然后将两个相同的透明胶片彼此对齐。您可以将其保持在光线下，仍然会看到一种暗淡的紫色光芒，但是它大部分是不透明的。我承认这可能是造成我麻烦的原因之一！
我开始使用普通的100瓦灯泡，但收效甚微；曝光似乎需要40分钟甚至更长时间才能产生任何效果，并且变得非常温暖。我过去常常使用玻璃将面罩压在板上，但是在意识到玻璃块会产生大量的紫外线后，我决定改用透明丙烯酸板。
然后我找到了一种便宜的便携式紫外线消毒器，它实际上声称会发出UV-C光。据我所知，UV-A是在我可以解决的范围内对电路板进行曝光所需的类型，但它似乎具有更快的效果，即使在仅曝光两分钟后，我仍能看到效果。手册指出它使用了“ 4瓦长寿命紫外线杀菌灯”，是的，这不是您所说的明亮的东西。到目前为止，我进行的最长曝光时间约为六分钟，但我仍然遇到相同的问题（请参见下文）。
根据他们的所在地，据称这些板是使用苛性钠溶液开发的。
在我所有的尝试中，我都看到了电路图案的出现，但是要蚀刻掉的显影铜最终没有达到我期望的光泽度—我希望光致抗蚀剂层完全消散，从而导致暴露在外的有光泽的铜，在互联网上有很多参考PCB蚀刻站点。取而代之的是，我最终得到了不同程度的，有光泽的铜箔随机区域，但大部分都是无光泽的铜（部分溶解的光刻胶），而其他区域则完成了蓝绿色的光刻胶层。我还没有尝试过蚀刻，但是不难看出为什么我期望这样一块曝光不良且显影的电路板也很难蚀刻。考虑到光致抗蚀剂仅部分消散，我无法想象“大部分无光泽的铜”区域将被蚀刻。
我正在切割两个中型预敏板的一小块区域以进行测试，而且我快用光了！
因此我不清楚，由于所有这些变量，我的进度非常缓慢：
- 不确定曝光时间（对于我的灯）。
- 不确定所需的紫外线灯的位置和高度。
- 不知道我的遮罩图案是否足够不透明（对于紫外线）。
- 不确定烧碱与水的正确比例。
- 不确定是否有时间将董事会留在烧碱中-我是否会发展得太远。
- 不确定要浸入水中以阻止其发展-如果您没有足够长的时间，可以将其放回苛性钠中以继续进行开发吗？还有你怎么知道！
- 我也不知道已开发的预增感板是否会保持原样，并且不会随着日光的流逝而褪色。正常日光影响预增敏的开发板多长时间？
任何人都可以给我的帮助将不胜感激。为了有效地学习，我还没有记录好自己的活动记录，因为我认为自己已经钉牢了！但是，如果需要，我可以提供到目前为止我的努力的图片。
