拜耳过滤器如何制造?


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继先前有关拜耳过滤器的问题之后,我很想知道:

它们实际上是如何制造的?他们如何将如此少量的染料施加到每个子像素?

我最好的猜测是某种基于光学的化学蚀刻,然后进行染浴...(每种颜色)


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zh.wikipedia.org/wiki/Color_filter_array上有一段有关制造过程的部分
dav1dsm1th 2015年

哦,好地方!@ dav1dsm1th-奇怪的是,实际的拜耳过滤器Wiki没有提及该过程,我会读一读...
Digital

Answers:


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从本文的摘要中获得用于CCD和CMOS图像传感器的彩色滤光片阵列,使用化学放大的热固化预染色正性光刻胶进行365 nm光刻

重氮萘醌-线型光刻胶用于通过依次沉积和图案化每个彩色层来生产这些滤光片。

我对这句话的理解是,过程如下

  1. 带有添加染料(红色,绿色或蓝色)的光致抗蚀剂(一种聚合物和敏化剂,在可见光中相对透明,但在450nm处的紫外线中强烈吸收)沉积在传感器表面上
  2. 将金属图案化的掩模放在光刻胶上
  3. 光刻胶的未掩膜区域由紫外线光源曝光,重氮萘醌在其上转化
  4. 面膜被去除
  5. 曝光的光致抗蚀剂用水性溶剂溶解,未曝光的区域不易溶解,因此残留
  6. 使用不同的染料和不同的蒙版重复1-5

有关该光刻胶的工作原理,请参见en.wikipedia.org/wiki/Diazonaphthoquinone


我怀疑应该有一个烘焙步骤或者图5和6也可能有1和2之间的烘烤工序之间或之后6.
布赖恩财宝

不错的链接-但是,该文章已有16年历史了,因此鉴于ccd / cmos芯片密度的大量增加,因此,这可能不是当前的方法...例如,在物理上可以创建足够精细的金属掩模今天的筹码?
Digital Lightcraft 2015年

是否有大幅增加?我认为像素密度增加了约10倍。因此,线性特征尺寸仅需减少了3倍。但是,您可能会指出,将掩模直接放在光刻胶上可能是正确的不是怎么做的。这更像是将掩模成像到光致抗蚀剂上,同时将其缩小,这对于图案化传感器的电子设备将是必需的。我将编辑答案以反映这一点。
布赖恩·库贝拉

经过进一步考虑后,我认为如我首先描述的那样,接触掩模更可能用于对滤色器进行构图。金属掩模的分辨率可以优于100nm。像素大小约为1um。
Brian Kubera

我没有提到的一个问题是微透镜阵列的形成,如果存在,它可以分离滤色镜或使其成为滤色镜的一部分。
布赖恩·库贝拉
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