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CMOS(互补金属氧化物半导体)逻辑具有许多理想的特性:
它指的是在IC上如何构建门。CMOS代表互补MOS(金属氧化物半导体),它同时使用PMOS和NMOS(即互补)来构造逻辑。
CMOS速度快,扇出量大,并且比其他技术消耗的功率少。
其他系列为TTL(晶体管-晶体管逻辑,仍使用NPN / PNP),ECL(发射极耦合逻辑-快速但消耗大量功率-仍以各种形式使用)DTL(二极管晶体管逻辑-旧)和RTL(电阻晶体管)逻辑(较旧)
经常使用“ CMOS兼容”或“ TTL兼容”来描述逻辑1和0所需的电压电平。
奥利(Oli)和奥林(Olin)解释了CMOS的优势,但让我退后一步。
TL:DR:互补逻辑可实现轨到轨输出电压摆幅,并且MOSFET晶体管是一种非常可扩展的技术(可以在小表面上获得数十亿个晶体管),并且具有一些非常有用的特性(与BJT相比)。
之所以需要互补门,是因为最简单的门概念是基于上拉和下拉概念。这意味着有一个设备(一个晶体管或一组晶体管)将输出拉高(到“ 1”),另一个设备将其拉低(到“ 0”)。
之所以是互补的(CMOS中的“ C”),是因为您使用的两个设备的行为相反,因此是互补的。然后,由于nMOS(下拉)需要高输入电压(“ 1”)才能接通,而pMOS需要低电压(“ 0”),因此逻辑处于反相状态。
以及其他一些信息:正如Olin所说,MOSFET技术普及的主要原因是它是一种平面器件,这意味着它适合在半导体表面上制造。
这是因为,如您在图片中所见,在同一衬底上构建一个MOSFET(这是一个n沟道,p沟道需要一个额外的掺杂区,称为n阱),基本上就是对两个n +区域进行掺杂。放置门和触点(非常简化)。
如今的BJT晶体管也采用类似MOS的技术制成,这意味着在表面上进行“蚀刻”,但基本上它们由三层不同掺杂的半导体组成,因此它们主要用于分立技术。实际上,它们现在的构建方式是在硅的不同深度创建这三层,并且(仅供参考),在最新技术中,它们占据平方微米级左右的面积,而MOS晶体管可以内置<20 nm技术(定期更新该值),总面积大约小于100nm²。(右图)
因此,您可以看到,除其他特性外,MOSFET晶体管更适合(在当今的技术中)实现超大规模集成(VLSI)。
无论如何,由于双极性晶体管具有更好的线性特性,因此仍广泛用于模拟电子产品。而且,BJT比采用相同技术制造的MOSFET更快(意为晶体管尺寸)。
请注意,CMOS不等于MOS:由于C是“互补”的,所以它是MOS门的一种特殊配置(即使广泛使用),而高速电路通常使用动态逻辑,目的是从根本上减小CMOS的输入电容。盖茨。实际上,试图将技术推向极限,在输入端具有两个栅极电容(如CMOS一样)是造成性能损失的原因。您可以说增加上一阶段提供的电流就足够了,但是举个例子,2倍的充电速度需要2倍的充电电流,这意味着2倍的电导率(这是2倍的通道宽度实现的),并且-令人惊讶的是-倍增了输入电容。
其他拓扑(如传输晶体管逻辑)可以简化某些门的结构,有时可以实现更高的速度。
变化的话题,在谈论微控制器和接口时,重要的是要记住,CMOS门的高输入阻抗对于确保输入/输出引脚永不悬空(如果有保护,这是内部确保的)非常重要。门可能会受到外部噪声的影响,并具有无法预测的值(可能会闩锁和损坏)。因此,声明具有CMOS特性的设备时也应建议您这样做。